第三代半導體全產線應用！

濕製程微汙染檢測

全面掌握微奈米粒子數據，建立完整產線運行履歷




Δ 數據面版(示意圖)

【邑流優勢】

半導體邁入3奈米、2奈米製程，零件清洗的製程當中，去離子水 /化學液的純淨度至關重要。任何微汙染都會影響良率與產能。

邑流微測FlowVIEW採用先端雷射感測技術，搭配客製化多通管路，研發半導體奈米級濕製程「線上多通道粒子檢測系統」。

  • 直接整合至產線營運中機台
  • 24 小時自動化多點位分析
  • 監控微奈米粒子數量變化
  • 優化過濾效能
  • 減少無效稼動，提升清洗製程效率
  • 每年最高可節省 72%成本

#顯影劑、混酸去光阻液、銅/鋁酸、DI water檢測效果佳。

#提供Demo測試，歡迎洽詢。


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立即來電：03-6589006#122

效益評估


缺陷預判

自動示警，微奈米粒子出現微汙染狀況，潔淨程度達警示標準，可提前更換濾心，預防產品出現狀況。



最佳化建議

智慧化交叉比對濾心尺寸、壽命、保養週期，評估製程潔淨度。並提供最佳化建議。



建立穩定製程標準

產線機台之清潔維持穩定的製程標準，確保此一製程不會成為客戶highlight的一環


Δ in-line多通道微汙染檢測

 

【產業應用】

  • 進出料檢測
    有效監控 In-line 進料過程是否發生微汙染情形，確保原物料從源頭至產線端皆維持最高規格的潔淨品質。
  • 產線檢測
    協助產線使用者即時監控成分及尺寸異常、分散及團聚性。
  • 廢料檢測
    AI 智慧分析軟體，自動化產出廢料/廢水中的粒子成分、尺寸等重要參數。

【導入客戶】

  • 台灣知名半導體封裝廠
  • 晶圓製造廠
  • 台灣面板大廠

#顯影劑、混酸去光阻液、銅/鋁酸、DI water檢測效果佳。

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客戶成功案例

國內半導體封裝大廠

合作夥伴

創新 技術
臨場電子顯微鏡套件
獨家奈米級晶片系統，結合微流體控制與系統整合，突破過去電子顯微鏡瓶頸。可直接臨場觀測原始級、奈米級液態樣品，甚至是活體細胞。解析度最高可達7nm！
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